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    鈦管靶


      為了減少鈦管靶中的氣孔,加強濺射薄膜的性能,通常要求靶材具有較高的密度。靶的密度不但影響濺射速率,而且影響薄膜的電學和光學性能。靶密度越高,薄膜性能越好。另外,加強靶材的密度和強度可以使靶材可以承受濺射過程中的熱應力。密度也是目標的關鍵性能指標之一。
      通常目標材料是多晶結構,晶粒尺寸可以從微米到毫米。對于鈦管靶,小晶粒靶材的濺射速率比大晶粒靶材快,而小晶粒差靶材(均勻分布)沉積的薄膜厚度分布比較均勻。

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